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半导体装置及其制造方法

发明专利未知
20权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

李城门; 安裕临; 郭玟灿

申请日

Apr 24, 2026

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

H10D 84/83 (2025.01)H10D 84/01 (2026.01)H10W 20/43 (2026.01)H10W 20/41 (2026.01)

一种半导体装置包括:栅极线,其在第一水平方向上彼此相邻并且各自在第二水平方向上延伸;源极/漏极区,其分别在第一水平方向上与栅极线相邻;背侧过孔接触件,其连接到在第二水平方向上彼此面对的一对源极/漏极区;背侧绝缘图案,其在竖直方向上与栅极线对准并且在第一水平方向上彼此间隔开;半导体块,其接触背侧绝缘图案的侧壁;以及器件隔离层,其覆盖背侧过孔接触件的侧壁,其中,背侧过孔接触件包括面对该一对源极/漏极区的一对第一部分、以及在该一对第一部分之间的第二部分,并且该一对第一部分的第一水平宽度小于第二部分的第二水平宽度。

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