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发明专利审中
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

INOUE Ryo; KONDO Hayato; CHIN Shinu; SATO Eiji

申请日

Nov 1, 2023

公开日

Jan 6, 2026

IPC 分类

G01DH01MH01MH01MH01MH01MH05K

CPC 分类

G01DH01MH01MH01MH01MH01MH05KY02E