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CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS

发明专利审中

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§ Ⅰ

卷宗概要

申请人

Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人

FUKUSHIMA, Masahiro; WATANABE, Satoshi; FUNATSU, Kenji; MASUNAGA, Keiichi; KOTAKE, Masaaki; MATSUZAWA, Yuta

申请日

Jun 24, 2025

公开日

Jan 6, 2026

IPC 分类

G03FG03F

CPC 分类

G03FG03FG03FG03F

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