返回搜索
档案
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS, AND RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION PROCESS
发明专利审中
§ Ⅰ
卷宗概要
申请人
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
发明人
Kobayashi, Naoki; Kori, Daisuke; Yano, Toshiharu
申请日
Jun 24, 2025
公开日
Jan 6, 2026
IPC 分类
G03FC08F
CPC 分类
G03FG03FC08F