搜索
AI 工具
专利分析
资源中心
定价
zh
登录
免费开始
返回搜索
№ KR1020250179816A
档案
기판 처리 장치 및 방법
收藏
发明专利
审中
6
浏览
§ Ⅰ
卷宗概要
申请人
한화세미텍 주식회사
原始名称记载: 한화세미텍 주식회사 · 查看全部专利
专利申请人记载
发明人
류희성; 신유리
申请日
Jun 24, 2024
公开日
Dec 31, 2025
IPC 分类
H1J 37/32
H1L 21/687
H1L 21/768
CPC 分类
H1J37/3244
H1J37/32174
H1J37/32715
H1L21/68742
H1L21/76837
外部资源
Google Patents
Espacenet