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감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 패턴 형성 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법

发明专利patent.status.granted
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

카와바타 타케시; 우에무라 미노루; 츠치무라 토모타카

申请日

Jul 7, 2022

公开日

Dec 31, 2025

IPC 分类

G3F 7/39C7D 295/26C7D 327/6G3F 7/4G3F 7/38G3F 7/20G3F 7/26

CPC 分类

G3F7/39C7D295/26C7D327/6G3F7/4G3F7/38G3F7/20G3F7/26