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기판 처리 방법 및 기판 처리 장치

发明专利patent.status.granted
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§ Ⅰ

卷宗概要

申请人

专利申请人记载

发明人

스미 노리타케

申请日

Aug 23, 2024

公开日

Dec 31, 2025

IPC 分类

H1L 21/2H1L 21/67H1L 21/677H1L 21/687

CPC 分类

H1L21/2101H1L21/2057H1L21/67034H1L21/67051H1L21/67155H1L21/67742H1L21/67748H1L21/68728

外部资源

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