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기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
发明专利patent.status.granted
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§ Ⅰ
卷宗概要
申请人
发明人
야마모토 시게루; 나가이 야스히코; 이와타 게이지; 아키야마 다카시; 이토 아키라; 후지이 다이키; 고다 가즈키; 니시노 요스케; 가와이 유야; 에다미쓰 겐지
申请日
Apr 24, 2024
公开日
Dec 31, 2025
IPC 分类
H1L 21/67H1L 21/687
CPC 分类
H1L21/67017H1L21/68742