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플라즈마 반응 장치

发明专利patent.status.granted
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§ Ⅰ

卷宗概要

申请人

专利申请人记载

发明人

최대규

申请日

Nov 9, 2020

公开日

Dec 31, 2025

IPC 分类

H1J 37/32

CPC 分类

H1J37/32357H1J37/3244H1J37/32522H1J37/32669H1J37/32834H1J37/32935

外部资源

Google PatentsEspacenet