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기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

发明专利patent.status.granted
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

이와시타 야스하루; 가가와 고지; 아마이 마사루; 모리카와 가츠히로

申请日

May 13, 2021

公开日

Dec 31, 2025

IPC 分类

H1L 21/67G3F 7/42H1L 21/27

CPC 分类

H1L21/6715G3F7/422H1L21/274H1L21/67103