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색인된 특허 기록 1건

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溅射靶材水洗工艺参数的多目标优化方法、系统

本发明公开了溅射靶材水洗工艺参数的多目标优化方法、系统，旨在解决靶材清洗中深层去污与防止氧化难以平衡的技术难题。该方法基于待清洗靶材的材质属性，将水洗过程在时间轴上划分为表面粗洗、深层清洗和防氧化速洗三个连续的时序阶段；将各阶段持续时间、水温和超声功率联合作为优化变量，构建矩阵序列进行染色体编码；利用预置映射表计算个体的总清洁度与总氧化损伤评分，并对相邻阶段水温超阈值累计时长突破临界值的个体触发极值惩罚；最终以双目标迭代输出帕累托最优解集并解码执行。本发明的方案能够有效规避靶材的不可逆氧化损伤，大幅降低算法算力需求，具有显著的工业应用价值。

❖南充溢辉电子科技有限公司周有民; 严垚; 陈帆Oct 16, 2026§ 2/10 청구항G06F 30/27 (2020.01), G06N 3/126 (2023.01)