원래 이름 기록: 江苏晋誉达半导体股份有限公司

本发明公开了一种晶圆载片台，包括微调平台，微调平台上固定安装有基准架，基准架上滑动安装有固定架，固定架内套装、且固定安装有中间衔接架，中间衔接架内套装有调节架，调节架的外壁与中间衔接架的内壁为球面配合，且中间衔接架与调节架之间设有气吸式固定结构；调节架上设有载板，载板与调节架之间设有负压吸附机构；调节架上还安装有片体吸附顶升机构，载板上开设有避让孔。实现了晶圆所处平面位置的调整，同时与光刻板保持平行状态，平行度调节快速、方便，且调节后固定可靠、稳定，为保证曝光、光刻等工艺的效果和产品的质量奠定了基础。

本发明公开了一种定位载台，包括基板，基板上设有中心孔，位于中心孔外周的基板上设有多个吸附结构，位于吸附结构外围的基板上设有呈直角分布的定位轮，与定位轮相对的基板上设有呈直角分布的驱动机构；基板上还设有多个与中心孔连通的容纳槽，每个容纳槽内均设有平面校准机构。实现了对光刻板定位和晶圆所在位置平行度调整的集成，且对光刻板的定位速度快、精度高；同时，有效保证了晶圆和光刻板的平行度，为高质量的进行曝光、光刻等工艺奠定了基础；而且，布置紧凑、集成度高，体积小。

本发明公开了一种曝光方法，包括：将光刻板定位于载台上，载台装配至定位座上、并校平，实现对光刻板的校平；微调平台带动载片弹性调节、固定装置在XYZ方向调整，与平面校准机构接触和球面配合结构，完成校平标准晶圆、且与光刻板平行；取走标准晶圆，将晶圆送至寻边器调整后再送至载片弹性调节、固定装置上，执行上述步骤，使晶圆与光刻板平行；多方位调节机构带动视觉检测相机对光刻板与晶圆完成对正检测后进行曝光工作，移走曝光的晶圆、移送下一个待曝光晶圆，如此循环往复。实现了对光刻板和承载光刻板载台的定位、便于取放，且能保证光刻板与晶圆平行精度，保证了曝光质量；简化了取放结构、光源使用通用性强，有利于曝光设备的小型化设计。

本发明实施例公开了一种载台的快速定位、调平方法，包括：将待定位件置于载台上、并使其与中心孔对应；驱动机构对待定位件施加推力使其与定位轮相抵；吸附结构将待定位件固定在载台上；承托轮承托载台、并将载台往支撑轮方向推送；动力驱动元件驱动压紧座，使压紧轮和支撑轮分别顶靠在载台的两端；持续施加推力，通过压紧轮和支撑轮与定位倾斜面的配合，对载台的两端进行挤压使载台向上移动，完成压紧轮和支撑轮对载台的三点支撑、及对载台的调平。实现了光刻板定位和晶圆所在位置平行度调整的集成、及载台的抽拉式拆装，便于载台和光刻板的取放、且定位精确可靠迅速；保证了光刻板和晶圆的平行度，结构紧凑、集成度高，空间占用率低。

本发明公开了一种晶圆调整装置，包括固定架，所述固定架内套装、且固定安装有中间衔接架，所述中间衔接架内套装有调节架，所述调节架的外壁与所述中间衔接架的内壁为球面配合，且所述中间衔接架与所述调节架之间设有气吸式固定结构。在Z轴方向调整时，调节架的端部会与布置在其上方的基准部件进行相抵，在相抵的过程中，通过调节架与中间衔接架的球面配合，调节架会在中间衔接架内进行滑动，直至调节架的端面与基准部件平行，之后通过气吸式固定结构对调节架进行固定。结构简单，平行度调节快速、方便，且调节后的固定可靠、稳定，实现了晶圆所处平面位置调整、并与光刻板保持平行状态的目的，为保证曝光、光刻等工艺效果和产品质量奠定了基础。