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색인된 특허 기록 1건

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SPIN ON CARBON HARDMASK COMPOSITIONS WITH LOW EVAPORATION LOSS AND PATTERNING METHOD BY USING THE SAME

The objective is to provide a spin-on hardmask composition exhibiting a small evaporation loss and being suitable for use in a semiconductor photolithography process which means to provide a composition containing a polymer represented by Formula 1, a surfactant, and an organic solvent and a patterning method using the same composition. The hardmask produced by the method has the effect of a yield improvement with excellent heat resistance by minimizing evaporation loss which is a cause of defects in a process.

❖YCCHEM CO., LTD.Su Jin LEE; Gi Hong KIM; Seung Hun LEE; Seung Hyun LEE§ 1/13 청구항H1L 21/2711

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원래 이름 기록: YCCHEM CO., LTD.

SPIN ON CARBON HARDMASK COMPOSITIONS WITH LOW EVAPORATION LOSS AND PATTERNING METHOD BY USING THE SAME