江西锃和半导体科技有限公司

本发明了提供一种小型化高精度双面研抛机，包括上下外齿驱动总成，用于驱动上下盘主驱动齿轮旋转；内齿驱动总成，用于驱动内齿圈主驱动齿轮旋转；内外齿圈升降总成，用于驱动内齿圈和外齿圈上下运动；下盘组件，其包括辅轴，其上设有上盘、下盘及外齿圈齿轮组，分别驱动上盘轴、下盘轴及外齿圈座旋转；上盘组件。本发明通过上下外齿驱动总成同步驱动上磨盘、下磨盘和外齿圈,速比固定不变，公转自转均匀稳定，研磨轨迹全覆盖、无死角、不重复，研磨更均匀，工件正反面同步等量磨削，厚度差极小，批量精度高度统一；一套动力同时驱动上磨盘、下磨盘和外齿圈,同步响应快，不存在多电机不同步误差，控制更简单稳定。