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색인된 특허 기록 1건

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ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (A) a resin including a repeating unit having a group which is decomposed by action of an acid to provide increased polarity, and (C) a nonionic aminoxyl radical having a molecular weight of 300 or more and not including an iodine atom, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, a pattern forming method, and a method for producing an electronic device which uses the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition.

❖FUJFILM corporationTaro Miyoshi; Shuhei Yamaguchi; Tomoaki Yoshioka; Eiji Fukuzaki§ 1/20 청구항G3F 7/4, G3F 7/39, G3F 7/20

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원래 이름 기록: FUJFILM corporation

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE