원래 이름 기록: 应用材料以色列公司

提供一种用于呈现通过检查半导体晶片或掩模产生的缺陷数据的方法，该方法包括接收包括每缺陷的多个属性的缺陷数据，使用t‑分布随机邻居嵌入来将缺陷属性从多维属性空间嵌入到低维空间中，以及在2D显示器上显示嵌入到低维空间中的缺陷数据作为散点图。一种用于检查晶片或掩模的系统，该系统包括用于呈现通过检查晶片或掩模产生的缺陷数据的用户界面，该用户界面实现一种方法，该方法包括接收包括每缺陷的多个属性的缺陷数据，使用t‑分布随机邻居嵌入来将缺陷属性从多维属性空间嵌入到低维空间中，以及在2D显示器上显示嵌入到低维空间中的缺陷数据作为散点图。还描述了相关装置和方法。

目前公开的主题包括一种计算机系统和一种自动地生成合成感兴趣缺陷(DOI)并且将所述DOI植入查验输出图像中由此生成合成故障图像的计算机实现的方法。所提出的技术实现合成故障图像的大集合(例如，数百万或更多)的迅速、准确且高效的生成，这可运行时实现，作为半导体样本的查验过程的一部分。所述合成故障图像可被生成并用于在半导体制作过程期间运行中检测DOI。

提供的系统和方法包括获取与给定样本的像素强度剖面相关的数据D，将数据D提供给机器学习模型，以根据数据D确定与给定样本的深度相关的数据，其中所述机器学习模型已用训练集进行过训练，其中训练集的至少一部分是基于可操作的模型生成的，所述模型基于一或多个与样本相关的参数，预测与所述样本的像素强度剖面相关的数据。