一种半导体表面处理的镀层装置
本发明提供一种半导体表面处理的镀层装置,涉及半导体镀层技术领域,包括所述密封箱门滑动连接在镀层箱体的前端;所述导向滑轨设有两个,两个导向滑轨均固定连接在镀层箱体的前端面;所述导向滑槽设有两个,两个导向滑槽均开设在密封箱门的后端面;所述观察窗固定连接在密封箱门的内侧;所述固定把手设有两个,两个固定把手均固定连接在密封箱门的前端面,解决了现有的半导体表面处理镀层装置在使用过程中,通常需要先将晶圆放置于晶圆架中,再通过螺栓将其固定安装在设备顶部,方可进行镀层工艺,操作较为繁琐,装拆步骤耗时较长,增加了人工操作强度,影响了生产效率的问题,显著提高了镀层作业的工作效率,降低了操作人员的劳动强度。