특허 출원인 기록

APPLICANTS

JSR株式会社

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색인된 특허 기록 2건

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이 출원인 조건으로 특허 검색
№ CN122935735A발명
알 수 없음

感放射线性组合物及图案形成方法

本发明的目的在于提供一种感放射线性组合物、以及图案形成方法,所述感放射线性组合物能够形成可以充分的水平发挥感度、曝光宽容度、焦点深度、图案矩形性、保存稳定性、显影缺陷性能及耐干式蚀刻性的抗蚀剂膜。一种感放射线性组合物,含有:包含具有酚性羟基的结构单元(I)与下述式(2)所表示的结构单元(II)的聚合物(A)、下述式(1)所表示的化合物(B)、交联剂(Q)及溶剂(E)。(式(1)中,R、R、R及R分别独立地为氢原子或碳数1~40的一价有机基;R及R分别独立地为氢原子或碳数1~40的一价有机基,或者表示R及R相互结合并与这些所键结的碳原子一起构成的碳数3~10的脂环结构;R及R分别独立地为氢原子或碳数1~40的一价有机基,或者表示R及R相互结合并与这些所键结的碳原子一起构成的碳数3~10的脂环结构;R为卤素原子、氰基、硝基、羟基或碳数1~40的一价有机基;在R存在多个的情况下,多个R相互相同或不同;n为1~5的整数;p为0或1;R为碳数1~40的一价有机基;X为‑O‑、‑S‑、‑SO‑或‑CO‑)(式(2)中,R为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基;n1为0~5的整数;X为卤素原子、氰基、硝基、烷基、羧基或氟化烷基;在X存在多个的情况下,多个X相互相同或不同)。

❖JSR株式会社根本龙一; 大城卓; 田中义一; 凑裕二; 稻见甫Oct 16, 2026§ 2/12 청구항G03F 7/004 (2006.01), C07D 327/06 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01) +129