湖北兴福电子材料股份有限公司

本发明公开了一种氮富集共价有机框架/氧化铈异质复合磨料及其制备方法和化学机械抛光应用，属于半导体材料与超精密加工技术领域。该方法首先通过沉淀法制备纳米氧化铈颗粒，再采用溶剂热法合成含氮共价有机框架材料，并通过原位负载或后负载方式构建COF‑CeO异质界面结构。COF中的亚胺键、酚羟基及含氮位点能够与CeO表面形成稳定的Ce‑N和Ce‑O‑C界面键，促进电子迁移并诱导Ce向Ce转化，从而增加氧空位浓度，提高界面化学活性。同时，COF多孔骨架能够有效抑制CeO颗粒团聚，改善浆料分散稳定性。所得复合磨料在光学玻璃抛光中表现出优异性能，在保持较高材料去除率的同时显著降低工件的表面粗糙度。本发明工艺简单、原料易得、易于工业放大，具有广阔的应用前景。

本发明提供了一种二氯二氧钼的纯化方法及二氯二氧钼，该方法全程无氯气、无溶液、无溶剂参与。该方法包括以下步骤：（1）高纯三氧化钼与（5%~10%）H/Ar混合气体在350℃下进行还原反应2~5h，得到亚稳态氧化钼粉；（2）亚稳态氧化钼粉与无水复合固态氯源、惰性复合导热载体按比例干法球磨混匀，得到均匀复合粉体；（3）将复合粉体置于反应装置中，恒温反应温度为220~300℃，反应时间为3~5h，制得二氯二氧钼粗品；（4）通过真空梯度升华纯化粗品制得高纯二氯二氧钼。本发明具有合成‑纯化一体化装置、工艺简单、安全环保、成本较低，且制备二氯二氧钼的纯度较高。