№ CN121399141A発明
有効新型化合物、包含其的前体组合物和利用其的薄膜的制造方法
本发明涉及能够通过气相蒸镀来进行薄膜蒸镀的气相蒸镀化合物,具体地,涉及能够适用于原子层蒸镀法(Atomic Layer Deposition,ALD)或化学气相蒸镀法(Chemical Vapor Deposition,CVD)且反应性、挥发性和热稳定性优异的新型化合物、包含上述新型化合物的前体组合物、利用上述前体组合物的薄膜的制造方法。
❖韩松化学株式会社朴哲完; 金贤基; 申怡瑟; 朴冠炫; 朴正佑§ 3/9 請求項C07F 7/00 (2006.01), C07F 7/28 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01) +118