铭扬半导体科技（合肥）有限公司

本发明公开了一种抛光设备和抛光设备的抛光方法，抛光设备包括：前置装置；抛光装置；清洁装置；水槽储料装置，水槽储料装置包括清洁储料件和搬运件，清洁储料件上设置有多个间隔设置的缓存工位，清洁储料件上设置有进液口和出液口，多个缓存工位位于进液口和出液口之间，搬运件与清洁储料件间隔设置，搬运件选择性地将物料在抛光装置和清洁储料件之间搬运。由此，通过在清洁装置和抛光装置之间设置水槽储料装置，水槽储料装置可以在暂存物料的同时对物料进行清洗，不仅可以使得物料的抛光不受清洁装置中工位的制约，可以提高生产效率，而且还可以简化物料在多个装置中的输送流程，可以达到保护晶圆、节约耗材和缩短工艺周期的目的。