瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司

本申请涉及一种KrF光刻胶组合物及其制备方法和应用，涉及半导体光刻材料技术领域，制备原料包括以下质量百分含量的组分：成膜树脂8‑15%、非离子型光致产酸剂0.2‑0.8%、猝灭剂0.01‑0.1%、表面活性剂0.005‑0.05%、溶剂 余量补足至100%。本申请制备的KrF光刻胶组合物在厚膜条件下实现了酸扩散的精准调控，提升了分辨率，降低了边缘粗糙度，同时保持了良好的灵敏度。

本申请属于光刻胶材料技术领域，具体涉及一种正性光刻胶及其制备方法。一种正性光刻胶，包括如下重量份的各组分：酚醛树脂100份、重氮萘醌化合物30‑45份、添加剂3‑5份、溶剂250‑350份；所述酚醛树脂由摩尔比为1:（0.75‑0.85）的酚类单体与醛类单体，通过缩聚反应制得；所述酚类单体包括摩尔比为（5‑6）:（5‑7）:（1‑2）的3‑甲基苯酚：4‑甲基苯酚：2，5‑二甲基苯酚。本申请中的正性光刻胶，提高了曝光区与未曝光区溶解速率差，能够满足i线光刻工艺对高分辨率、宽工艺窗口和低缺陷率的综合要求，具有良好的工业应用前景。