一种钻针涂层及其制备方法
本申请涉及一种钻针涂层及其制备方法,制备方法中:将含钴碳化钨钻针置于涂层机内,抽真空、升温后经氩离子蚀刻;以脉冲偏压加速低功率溅射的碳化钨离子,形成碳化钨层;调整偏压与功率,通入含碳气体形成碳化钨掺杂含氢类金刚石过渡层;关闭碳化钨靶材,通过电磁线圈辅助PECVD制备含氢类金刚石层。本申请采用无金属打底层的梯度涂层结构与工艺协同,适配钻针螺旋状凹槽的不平整表面,解决了含氢类金刚石涂层结合强度不足、传统涂层易脱落及总厚度过大的问题,显著提升钻针钻孔寿命、降低断针率,保障加工精度。