华芯程（上海）科技有限公司

本申请公开了一种光学邻近效应校正方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该光学邻近效应校正方法包括获取目标版图轮廓，在目标版图轮廓上以第一预设间距均匀放置初始控制点，形成当前控制点集合；基于当前控制点集合执行OPC迭代，并在每轮迭代完成时，监测当前迭代状态是否满足预设的触发条件；当监测到当前迭代状态满足预设的触发条件时，获取当前控制点集合中各控制点处的局部曲率；将局部曲率与动态阈值进行比较，并根据比较结果确定目标区域；在目标区域中插入新控制点，以对当前控制点集合进行更新；基于更新后的当前控制点集合执行OPC迭代，并基于本轮迭代结果判断是否满足预设的收敛条件；若满足收敛条件，则输出最终的曲线OPC版图。

本申请公开了一种矢量化多边形轮廓提取方法、装置、存储介质及电子设备，本申请涉及掩膜图像处理技术领域。其中，该矢量化多边形轮廓提取方法包括获取逆向光刻优化输出的灰度图像，对灰度图像进行前景像素提取和连通区域分析，得到一个或多个前景连通区域；对各前景连通区域进行骨架化处理，提取单像素宽度的骨架路径；根据各前景连通区域的面积与对应骨架路径的长度，计算各前景连通区域的区域宽度；将各骨架路径分别转换为由水平线段与垂直线段构成的曼哈顿风格折线；基于曼哈顿风格折线和区域宽度，对曼哈顿风格折线进行双向膨胀处理，生成闭合的矢量化多边形轮廓。本申请可以提高掩膜制造的成品率和可靠性。