№ CN121379003A発明
有効PVA光学膜及其制备方法和高透高偏振偏光片
本发明公开了一种PVA光学膜及其制备方法和高透高偏振偏光片,属于PVA光学膜制造技术领域。本发明通过控制PVA光学膜的面内折射率差⊿N为1×10~20×10,平衡溶胀度为180%~220%、平均溶胀速率为90%/min~110%/min,使PVA光学膜具有预取向分子链结构并增加晶体物理缠结点,与提高PVA光学膜分子量的方法相比,本发明的PVA光学膜在制备偏光片的下游拉伸过程中,可以形成更多的取向聚碘离子,增加取向聚碘离子的数量,降低无规分子链含量,减少因为分子链运动导致的取向松弛,从而能够同时极大地提高偏振片的偏振度及透过率。
❖安徽皖维高新材料股份有限公司; 安徽皖维先进功能膜材料研究院有限公司唐成宏; 张前磊; 李家鸣; 刘涛; 王妍; 王道亮§ 3/10 請求項C08L 29/04 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01)10