№ CN121319370A発明
有効一种低浊度硅氧烷的制备工艺
本发明公开了一种低浊度硅氧烷的制备工艺,按下列步骤进行:S1:将来自上游的水解物硅氧烷送入到一级除氯装置内进行除氯处理,水解物硅氧烷在一级除氯装置的停留时间为10~60min;S2:将除氯处理后的水解物硅氧烷送入到二级除浊装置进行除浊处理,水解物硅氧烷在二级除浊装置的停留时间为10~60min;S3:将除浊处理后的水解物硅氧烷送入到三级除水装置进行除水处理,水解物硅氧烷在三级除水装置的停留时间为10~60min。本发明不仅能够降低了水解物硅氧烷中水分、氯含量以及保障浊度,处理后的水解物中无新杂质引入,且能够有效的降低运行的成本,避免环境污染。
❖云南能投硅材科技发展有限公司刘阳赞; 周立刚; 胡晓雨; 雷丽婷; 李文静; 阮金俊; 李加旺; 骆鑫; 何娇; 庄兴龙§ 1/8 請求項C08G 77/06 (2006.01), C08G 77/34 (2006.01), B01D 15/18 (2006.01) +1