元の名称記録: 福建福特科光电股份有限公司

本申请涉及一种二维或双层光栅结构及其制备方法，属于微纳加工技术领域。该结构包括在衬底上依次堆叠的底层光刻胶和顶层光刻胶，底层光刻胶仅对第一波长紫外光敏感，顶层光刻胶仅对第二波长紫外光敏感。通过分别使用两种不同波长的紫外光源对两层光刻胶进行选择性曝光，实现各自图案的独立控制，经显影后形成双层或二维光栅结构。该方法避免了传统工艺中多次涂胶、对位不准的问题，提高了结构精度与工艺效率，适用于光子晶体、光栅耦合器、偏振分束器等光子器件的制备。

本发明属于光学器件技术领域，公开了一种超宽光谱多波段光学分光装置及其制备方法。包括三个形状完全相同的等腰直角三角形棱镜：棱镜A；设于棱镜A进光的第一直角面的分光膜S1；棱镜B，设于棱镜A的第二直角面的一侧，同时棱镜B的斜面与棱镜A的斜面分设在进光光路两侧；设于棱镜B进光的第一直角面的分光膜S2；棱镜C，设于棱镜B的第二直角面的一侧，同时棱镜C的斜面与棱镜A的斜面位于同一水平面；设于棱镜C进光的第一直角面的分光膜S3；所述棱镜A、棱镜B与棱镜C的斜面设置有相同的增透膜；所述第一波段、第二波段、第三波段和第四波段的光的波长不同。本发明所制备的分光装置可以实现超宽光谱多波段的高效分光。

本发明属于光学薄膜技术，公开了一种高透过率紫外短波通滤光片及其制备方法。所述滤光片包括基板、位于基板一侧的滤光膜及位于基板另一侧的增透膜；所述滤光膜为光控规整膜层，所述光控规整膜层包括交替设置的第一折射率层和第二折射率层，所述第一折射率层的折射率大于所述第二折射率层的折射率，所述光控规整膜层总厚度为1‑2µm；所述增透膜的厚度为所述滤光膜厚的30%‑85%。本方法通过优化膜层折射率匹配、膜系结构设计及调整沉积工艺参数提高了紫外短波通滤光片的透过率。