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本发明涉及一种加热器支承部以及化学气相沉积装置，更详细地涉及一种可以均匀地加热被安放基板的基座的化学气相沉积装置。化学气相沉积装置具备：腔体，容纳基板；基座，设置于所述腔体的内侧，并被安放所述基板或者用于安放所述基板的卫星盘，并且加热所述基板；加热器，设置于所述基座的下方，并具有朝向所述基座的中央部形成多个匝且缠绕的螺旋形形状，并且加热所述基座；以及加热器支承部，支承所述加热器，并能够调节所述加热器的所述多个匝中的相邻的所述匝之间的间隔。

本发明涉及一种基座组件以及化学气相沉积装置，更详细地涉及一种即使基座根据温度变化膨胀以及收缩，也可以连接于基座而恒定地供应悬浮气体的基座组件以及化学气相沉积装置。

本发明涉及一种基板处理装置，更详细地涉及一种可以在支承基板的静电吸盘的解吸附时感测残留静电力而防止基板的损坏或者破损等的基板处理装置，所述基板处理装置具备：腔体，提供对基板的处理空间；静电吸盘，设置于所述腔体的内侧而被安放所述基板；升降销，配置成贯通所述静电吸盘；销移动单元，使所述升降销上下移动；以及第一感测部，感测被所述升降销施加的负载或者扭矩。