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案件記録

一种凹槽结构刷式电化学抛光金属表面处理方法

発明有効
10請求項 · 1 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

李静春; 朱玲; 梁丽雪; 于辉刚; 梁德柱; 郑贵福

IPC分類

C25F 3/16 (2006.01)C25F 7/00 (2006.01)

一种凹槽结构刷式电化学抛光金属表面处理方法,涉及一种电化学抛光方法,为了解决现有的电抛光方法在应对狭小回槽结构时,抛光效果差的问题。本发明将石墨电极插入待抛光工件的凹槽;将石墨电极与电源负极相连,待抛光工件与电源正极相连,并以30A/dm至70A/dm的电流密度、18℃至60℃的温度,对待抛光工件凹槽往复刷抛60s至120s;刷抛后立即用与工件同材质、同凹槽结构且经过相同工艺参数抛光的对比试样,通过粗糙度仪比对,判定粗糙度是否小于或等于粗糙度阈值,如果是,则抛光完成;否则重复上述刷抛步骤。有益效果为很好的将电抛光方法应对在狭小回槽结构中,并且抛光效果好,抛光精度高,节省复合电解液。

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