一种基于基底参数自适应生成光学微图案的设计方法

本发明属于电数字数据处理技术领域，公开了一种基于基底参数自适应生成光学微图案的设计方法，包括：获取实际基底的非均匀物理参数图，并以此为据构建一个表征光学性能偏差的光学残差势场，随后，以参考图案为初始，在势场中对微图案单元执行迭代优化，其迭代的每一步都将基于势场梯度的调整与基于邻域影响的平滑校正进行协同，并实时更新势场，最终，在迭代收敛后，还对最终的残差势场进行空间求导分析，以生成制造公差指导信息。本发明将基底不均匀性作为设计的内在约束，通过一个闭环反馈系统，实现了设计结果与物理现实的适配。