一种具有匀气盘冷却结构的刻蚀设备

本发明公开了一种具有匀气盘冷却结构的刻蚀设备，包括刻蚀腔室、匀气盘、线圈壳体和匀气盘冷却结构。刻蚀腔室用于容纳晶圆并发生等离子体刻蚀反应；匀气盘设置在刻蚀腔室上端，用于向刻蚀腔室输送反应气体；线圈壳体设置在匀气盘上端，用于容纳线圈；匀气盘冷却结构包括风冷装置和通风口，风冷装置设置在线圈壳体的上表面；风冷装置的进风口位于线圈壳体上方，出风口穿过线圈壳体的上表面朝向匀气盘的中心区域，并且，风冷装置的出风方向与匀气盘的上表面之间的角度在30°到90°之间；通风口开设在线圈壳体的侧面。本发明可以对匀气盘的中心区域进行针对性的冷却，有利于保证匀气盘的温度均匀性，且风道结构简单，冷却效率较高。