反射型光掩模坯料和制造反射型光掩模的方法

提供包括基板、多层反射膜、保护膜和具有相移功能的吸光膜的反射型掩模坯料。吸光膜含有钌、钽和氮并且不含氧，且钌含量为80至90原子％、钽含量为5至15量％、氮含量为不大于10原子％，具有38至50nm的厚度和对于为在极紫外范围内的光的曝光光为10至14％的反射率和205至225度的相移。