基板处理系统、基板处理方法以及存储介质

本公开提供一种基板处理系统、基板处理方法以及存储介质。本公开的基板处理系统具备：一个处理容器和其它处理容器，所述一个处理容器和所述其它处理容器分别形成保存基板的一个处理空间和其它处理空间；气氛调整机构，其将包括所述一个处理空间和所述其它处理空间的调整区域设为第二气氛，所述第二气氛是比该调整区域的外侧的第一气氛低氧浓度和低湿度且压力为所述外侧的压力或该压力的附近的压力的气氛；抗蚀剂膜成膜装置，其具备所述一个处理容器，向所述第二气氛的所述一个处理空间供给含抗蚀剂成分气体来在所述基板形成抗蚀剂膜；以及热处理装置，其具备所述其它处理容器，在所述第二气氛下加热所述抗蚀剂膜被曝光前的所述基板。