铪前体和相关方法

本发明涉及包含卤化铪前体的前体容器。所述卤化铪前体包含小于1 ppm的至少一种杂质。所述至少一种杂质包含以下物质中的至少一种：钛污染物、铬污染物、铝污染物、铁污染物或其任何组合。还提供相关系统和相关方法，包括例如但不限于用于递送蒸气前体的系统、用于纯化前体的方法和类似系统与方法。