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案件記録

一种高纯铜靶材的加工方法

発明有効
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§ Ⅰ

案件概要

発明者

姚力军; 庄展业; 郭芬; 范文新

IPC分類

C22F 1/08 (2006.01)C21D 9/00 (2006.01)C23C 14/34 (2006.01)B21C 37/00 (2006.01)

本发明提供了一种高纯铜靶材的加工方法,所述加工方法包括如下步骤:将高纯铜靶坯经塑性加工后,得到变形铜靶坯,将所述变形铜靶坯依次进行第一阶段退火和第二阶段退火,然后进行机加工,得到高纯铜靶材成品。本发明提供的加工方法,在对铜靶材进行塑性加工后,进行两阶段退火处理,通过退火过程的精准控制,平衡靶材内部应力,靶材仍保持高质量的微观结构,靶材在经受机加工后,如切削,仍能保持高尺寸精度,低平面度和高平行度,进而提升靶材溅射平稳性,提升镀膜质量。

外部リソース