一种金属有序网格结构薄膜的制备方法

本发明公开了一种金属有序网格结构薄膜的制备方法，包括该方法包括：通过光刻技术在FTO衬底上形成图案化模板；采用电化学沉积法制备铜微米网格；旋涂PVDF预聚液并固化后剥离得到柔性Cu‑mesh/PVDF薄膜；最后通过AlF溶液处理在铜网格表面形成AlO包覆层，得到Cu‑mesh@AlO/PVDF复合薄膜。本发明通过引入AlO保护层，显著提高了薄膜的抗氧化性和环境稳定性，同时保持了优异的光电性能，透光率可达95％以上，方阻低于0.8Ω/sq。该制备方法工艺简单、成本低廉，所得薄膜在高温高湿环境下性能稳定，适用于柔性显示、触摸屏等光电子器件领域。