検索に戻る
案件記録
一种控制薄壁弯弧真空室烘烤变形的装置
発明有効
19閲覧数
10請求項 · 1 独立
§ Ⅰ
案件概要
発明者
柴振; 蒙峻; 杨建成; 万亚鹏; 杨伟顺; 罗成; 朱小荣; 马向利; 刘建龙; 谢文君; 魏宁斐; 焦纪强; 李长春; 胡振军
IPC分類
G05D 16/20 (2006.01)H05H 7/18 (2006.01)F16L 33/00 (2006.01)
本发明涉及加速器领域,尤其涉及一种控制薄壁弯弧真空室烘烤变形的装置。控制薄壁弯弧真空室烘烤变形的装置包括两个控制组件和稳压施力组件,两个控制组件分别设置于薄壁弯弧真空室的两端,两个控制组件能够同时对薄壁弯弧真空室两端的受力情况进行平衡调节,防止因单侧受力不均导致的扭曲或形变,从而保证整体结构的稳定性。通过稳压施力组件向气缸输入气体,推动活塞杆伸出以对活动法兰产生推力,进而抵消作用在波纹管端面上的大气压力,从而将传递到薄壁弯弧真空室两端的轴向拉力降至最小,有效避免薄壁弯弧真空室被拉直;同时,稳压施力组件控制气缸施力机构所提供力与大气压力的大小一致,以实现自适应调节。
外部リソース