实现确定半导体样本深度剖面的方法和系统

提供的系统和方法包括获取与给定样本的像素强度剖面相关的数据D，将数据D提供给机器学习模型，以根据数据D确定与给定样本的深度相关的数据，其中所述机器学习模型已用训练集进行过训练，其中训练集的至少一部分是基于可操作的模型生成的，所述模型基于一或多个与样本相关的参数，预测与所述样本的像素强度剖面相关的数据。