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案件記録

磁阻式随机存取存储器及其制作方法

発明有効
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§ Ⅰ

案件概要

IPC分類

H10N 50/01 (2023.01)H10N 50/10 (2023.01)H10N 50/80 (2023.01)H10B 61/00 (2023.01)

本发明公开一种磁阻式随机存取存储器及其制作方法,其中制作磁阻式随机存取存储器(Magnetoresistive Random Access Memory,MRAM)元件的方法,其主要先形成一自旋轨道转矩式(spin orbit torque,SOT)层于一基底上,然后形成一磁性隧穿结(magnetic tunneling junction,MTJ)于该SOT层上,形成一第一遮盖层于该MTJ旁,再形成一第二遮盖层于该第一遮盖层旁,其中该第二遮盖层顶表面低于该第一遮盖层顶表面。

外部リソース