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案件記録

镀覆装置

発明有効
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9請求項 · 1 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

芹泽祐太郎; 山本健太郎

IPC分類

C25D 17/10 (2006.01)

本发明提供一种镀覆装置。该镀覆装置具备:镀覆槽;基板保持架;阳极;至少一个电阻体,配置于上述阳极与上述基板保持架之间,用于电场调整,上述至少一个电阻体分别具备与阳极侧及基板保持架侧连通的多个贯通孔;以及电阻部件,配置于上述阳极与上述基板保持架之间,用于电场调整,上述电阻部件具备导入流体的导入口,构成为使上述电阻部件的内部的上述流体的量或压力变化从而使体积变化,上述电阻部件设置为在上述至少一个电阻体的最靠近上述阳极的面上不堵塞上述多个贯通孔。

外部リソース