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案件記録

锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

発明不明
17請求項 · 5 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

福岛将大

出願日

Mar 31, 2026

公開日

Oct 16, 2026

IPC分類

C07C 381/12 (2006.01)G03F 7/00 (2006.01)C08F 212/14 (2006.01)G03F 7/004 (2006.01)C08F 220/22 (2006.01)C07D 493/08 (2006.01)C07D 495/08 (2006.01)C07D 307/12 (2006.01)C07D 309/06 (2006.01)C07D 319/12 (2006.01)C07D 339/08 (2006.01)C07D 333/76 (2006.01)C07D 409/12 (2006.01)C07D 335/12 (2006.01)C07D 327/08 (2006.01)C07D 279/22 (2006.01)

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中,溶剂溶解性优异、感度高、对比度高,LWR、CDU、EL、DOF等光刻性能优异且即使在微细图案形成时仍耐图案崩塌、蚀刻耐性也优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的锍盐型单体、含有来自该锍盐型单体的重复单元的聚合物、包含该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(a)表示的锍盐型单体,式中,Z为具有芳香族乙烯基结构及碘原子的羧酸阴离子。

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