锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，为高感度，分辨度优良，改善LWR、CDU、EL、DOF等光刻性能，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的锍盐、含有该锍盐作为淬灭剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种锍盐，以下式(1)表示。式中，Z为也可具有取代基的芳香族羧酸阴离子。