PECVD设备

本发明提供了一种PECVD设备，包括真空腔体、掩膜板、基座、基板、底部电磁线圈组和侧边电磁线圈组。掩膜板、基座和基板设于真空腔体内，基座位于掩膜板的下方，基座用于承载基板，基座可受控地朝向掩膜板移动，以使基板与掩膜板贴合。底部电磁线圈组设于真空腔体的底壁上，侧边电磁线圈组设于真空腔体的侧壁上并环绕真空腔体设置。本发明利用电磁场驱动掩膜板悬浮及水平移动，优化了设备空间布局；悬浮对位过程无机械接触，可避免摩擦颗粒生成，提升产品良率；真空腔体底部无需开设通孔，内壁完整无凸起，可保证气流场与温度场对称性，改善膜厚均匀性；电磁线圈组外置设置，便于安装维护，可降低维护难度，缩短停机时间。