検索に戻る
案件記録

一种氧化钇涂层退镀液和氧化钇涂层的退镀方法

発明不明
12閲覧数
10請求項 · 2 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

刘畅; 罗修恩; 陈仕超; 杨佐东

出願日

Sep 3, 2026

公開日

Oct 16, 2026

IPC分類

C23F 1/16 (2006.01)

本发明提供一种氧化钇涂层退镀液和氧化钇涂层的退镀方法,属于涂层退镀领域。具体而言,本发明提供的氧化钇涂层退镀液由1质量份的硝酸、2~5质量份的醋酸、320~400质量份的水组成。本发明提供的退镀液和退镀方法通过多元协同,在高效剥离氧化钇涂层的同时,不会对陶瓷基底造成损伤,可有效提高半导体设备部件的使用寿命,降低晶圆生产成本并提高晶圆良品率,可有效促进高制程半导体设备的发展。

外部リソース