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案件記録

一种铜箔表面处理用辊筒下压装置

発明不明
10請求項 · 1 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

印大维; 顾伟伟; 李超; 王同; 郑小伟; 汪光志; 华睿清; 丛浩; 何磊; 龙文昊; 关浩

出願日

Aug 6, 2026

公開日

Oct 16, 2026

IPC分類

C25D 17/00 (2006.01)C25D 7/06 (2006.01)

本发明涉及铜箔生产技术领域,公开了一种铜箔表面处理用辊筒下压装置,包括固定组件、第一、第二、第三调节组件及控制器。第一调节组件通过丝杆机构实现移动底板沿第一方向平移;第二调节组件通过绕移动底板摆动的摇臂提供摆动行程;第三调节组件在摇臂动力输出端设置第二丝杆机构及张力传感器,驱动压制辊端部沿第二方向位移。控制器独立获取两端张力传感器实际张力并比较,基于比较结果控制摇臂动作,调节压制辊两端相对导电辊位置,使两端实际张力相等并维持在预设范围内。本发明解耦调节行程与精度,兼顾铜箔换型与高精度定位,构成两端独立闭环差动调节,在连续电镀过程中自动修正两端张力偏差,实现张力动态平衡,提升电镀质量一致性。

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