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案件記録
一种在非金属衬底上低温直接生长六方氮化硼薄膜的方法
発明不明
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§ Ⅰ
案件概要
IPC分類
C30B 25/18 (2006.01)C30B 29/40 (2006.01)
一种在非金属衬底上低温直接生长六方氮化硼薄膜的方法,属于材料制备领域。将非金属衬底和前驱体分别置于管式炉和加热带中心区域,预抽真空并通入氮气,将非金属衬底加热至目标温度;保持所述目标温度,将氮气切换为氧气并开启等离子体发生器,对非金属衬底进行氧等离子体预处理;关闭等离子体发生器并将氧气切换为氮气;保持衬底温度不变,加热氨硼烷前驱体并重新开启等离子体发生器,生长六方氮化硼薄膜。本发明可在常规高温下得到高质量的六方氮化硼薄膜,同时实现室温~300 ℃的低温下在多种非金属衬底表面直接生长六方氮化硼薄膜,与未经氧等离子体预处理相比,所得六方氮化硼薄膜的拉曼特征峰半高宽减小,表明薄膜结晶质量得到改善。
外部リソース