一种PZT晶圆薄膜及其制备方法、一种马赫-曾德尔电光调制器及其制备方法

本发明公开了一种PZT晶圆薄膜及其制备方法、一种马赫‑曾德尔电光调制器及其制备方法，属于光学材料制备技术领域，本发明利用溶胶‑凝胶法先在SiO/Si衬底上制备种子层，再制备PZT干膜，随后在氧气氛围下进行高压氧气氛围热处理工艺，得到PZT晶圆薄膜，解决了传统常压热处理工艺制备的PZT晶圆电光系数较低，难以满足高性能光电器件需求的问题，本发明将PZT晶圆薄膜的电光系数由传统常压热处理的69pm/V显著提升至130pm/V，有效改善了PZT晶圆薄膜的光学性能，且工艺简单、成本可控，在光通信、光存储、电光调制器等领域具有广阔的应用前景。