一种凹镜光斑直投EUV成像系统

本发明公开了一种凹镜光斑直投EUV成像系统，属于极紫外光刻微纳加工技术领域。凹镜模组由多片弱曲率六边形子镜蜂巢密排拟合形成连续非球面凹面波前，每片子镜独立配置六自由度调姿促动机构，相邻子镜机械边缘预留装配间隙且无物理重叠；通过子镜局部曲率微调与姿态整定，使相邻子镜在晶圆像面的投影边缘形成可控光场重叠区域，补偿子镜边缘盲区，单场曝光消除六边形网格暗带；子镜曲面表面经曲面电子束直写工艺制备固定像素阵列，主镜等效几何精度优于衍射极限，晶圆分辨率由波长与光斑直投等效数值孔径决定。本发明用于半导体微纳图形光刻与精密器件研发，实现无物理掩模，升级MEMS微镜阵列后可以动态调制软件定义成像。