一种用于Micro-LED芯片清洗的光刻胶清洗剂及制备方法与应用

本发明提供一种用于Micro‑LED芯片清洗的光刻胶清洗剂及制备方法与应用，所述用于Micro‑LED芯片清洗的光刻胶清洗剂，以质量份计，包括如下组分：季铵碱5‑15份；醇胺20‑50份；极性溶剂45‑75份；N,N'‑二羟基均苯四酸亚胺0.01‑0.1份；山梨醇缩醛衍生物0.1‑1份。本发明用于Micro‑LED芯片清洗的光刻胶清洗剂包括季铵碱和醇胺，并结合N,N'‑二羟基均苯四酸亚胺与山梨醇缩醛衍生物的双重氢键桥接作用，构建了致密稳定的三维氢键网络，有效降低了游离OH和醇胺的有效活度，从而在高温清洗条件下实现对Cu电极的保护，具有超低腐蚀速率。