検索に戻る
案件記録
一种电阻抗成像方法、装置、设备及介质
発明不明
12請求項 · 4 独立
§ Ⅰ
案件概要
発明者
蔡文静; 高贵锋; 付峰; 王喆; 何怀武; 刘斌; 曹哲
出願日
Jul 28, 2026
公開日
Oct 16, 2026
IPC分類
G06T 17/20 (2006.01)G06N 3/0455 (2023.01)G06N 3/0464 (2023.01)G06N 3/042 (2023.01)G06T 5/73 (2024.01)G06N 3/0475 (2023.01)G06N 3/094 (2023.01)G06N 3/084 (2023.01)G06N 3/0985 (2023.01)G06N 3/096 (2023.01)G06V 10/44 (2022.01)G06V 10/82 (2022.01)
本发明公开了一种电阻抗成像方法、装置、设备及介质,电阻抗成像方法包括:通过预设的电极阵列向待成像对象进行交叉激励,获取待成像对象的当前交叉激励响应数据,电极阵列包括多个交错排布的电极;根据当前交叉激励响应数据对待成像对象进行预重建,获得待成像对象的当前电阻抗分布图;对当前电阻抗分布图进行特征提取,获取待成像对象的当前节点邻接关系和当前节点特征;基于当前节点邻接关系和当前节点特征,利用预设的图像生成模型生成待成像对象的目标电阻抗分布图。该方法通过交叉激励与特征提取相结合的方式,有效提升了电阻抗分布图的重建精度和空间分辨率,能够更准确地反映待成像对象内部实时的电特性变化。
ログインして全文を読む
請求項 1 を表示しています。無料登録で全 12 項の請求項、明細書全文、全図面、翻訳、法的状態を閲覧できます。
- 全請求項
- 技術分野
- 背景技術
- 発明の概要
- 図面の説明
- 発明を実施するための形態
外部リソース